Metodu PART/1CVD (Deposizzjoni ta 'Fwar Kimiku): F'900-2300 ℃, bl-użu ta' TaCl5 u CnHm bħala sorsi ta 'tantalu u karbonju, H₂ bħala atmosfera ta' tnaqqis, gass trasportatur Ar₂as, film ta 'depożizzjoni ta' reazzjoni.Il-kisja ppreparata hija kompatta, uniformi u ta 'purità għolja.Madankollu, hemm xi problemi...
Aqra iktar