English

It-Tieni Nofs Partijiet għal Baffles t'isfel fil-Proċess Epitassjali

It-Tieni Nofs Partijiet għal Baffles t'isfel fil-Proċess Epitassjali Dehru Stampa
  • It-Tieni Nofs Partijiet għal Baffles t'isfel fil-Proċess Epitassjali

Deskrizzjoni qasira:

Partijiet tal-grafita miksija SiC għal tagħmir epitassjali SiC.

Introduzzjoni u użu tal-prodott: Tubu tal-kwarz konness, jista 'jgħaddi l-gass biex isuq ir-rotazzjoni tal-bażi tat-trej, kontroll tat-temperatura

Post tal-apparat tal-prodott: fil-kamra tar-reazzjoni, mhux f'kuntatt dirett mal-wejfer

Prodotti downstream ewlenin: apparati tal-enerġija

Suq tat-terminal ewlieni: vetturi tal-enerġija ġodda


Dettall tal-Prodott

Tags tal-Prodott

SiC MiksijaGraphite Halfmoon Parthuwa komponent ewlieni użat fil-proċessi tal-manifattura tas-semikondutturi, speċjalment għal tagħmir epitassjali SiC. Aħna nużaw it-teknoloġija privattiva tagħna biex nagħmlu l-parti halfmoon b'purità estremament għolja, uniformità tajba tal-kisi u ħajja ta 'servizz eċċellenti, kif ukoll reżistenza kimika għolja u proprjetajiet ta' stabbiltà termali.

 
Post tax-xogħol tas-Semicera
Post tax-xogħol tas-semicera 2
Magna tat-tagħmir
Ipproċessar CNN, tindif kimiku, kisi CVD
Is-servizz tagħna
  • Preċedenti:
  • Li jmiss:

    • PRODOTTI RELATATI