Tantalum Carbide TaC CVD Kisi Custom Parts

Deskrizzjoni qasira:

Bil-miġja ta 'wejfers tal-karbur tas-silikon (SiC) ta' 8 pulzieri, ir-rekwiżiti għal diversi proċessi ta 'semikondutturi saru dejjem aktar stretti, speċjalment għal proċessi ta' epitassi fejn it-temperaturi jistgħu jaqbżu l-2000 grad Celsius.Materjali tas-susċetturi tradizzjonali, bħall-grafita miksija bil-karbur tas-silikon, għandhom it-tendenza li jissublimaw f'dawn it-temperaturi għoljin, u jfixklu l-proċess tal-epitassija.Madankollu, CVD tantalum carbide (TaC) jindirizza b'mod effettiv din il-kwistjoni, jiflaħ temperaturi sa 2300 grad Celsius u joffri ħajja ta 'servizz itwal.Ikkuntattja Semicera's Tantalum Carbide TaC CVD Kisi Custom Partsbiex tesplora aktar dwar is-soluzzjonijiet avvanzati tagħna.

 


Dettall tal-Prodott

Tags tal-Prodott

Semicera jipprovdi kisjiet speċjalizzati tal-karbur tat-tantalu (TaC) għal diversi komponenti u trasportaturi.Il-proċess tal-kisi ewlieni tas-Semicera jippermetti kisjiet tal-karbur tat-tantalu (TaC) biex jiksbu purità għolja, stabbiltà ta 'temperatura għolja u tolleranza kimika għolja, ittejjeb il-kwalità tal-prodott tal-kristalli SIC/GAN u saffi EPI (Susceptor TaC miksi bil-grafita), u l-estensjoni tal-ħajja tal-komponenti ewlenin tar-reattur.L-użu tal-kisi TaC tal-karbur tat-tantalu huwa li ssolvi l-problema tat-tarf u jtejjeb il-kwalità tat-tkabbir tal-kristall, u Semicera ssolviet it-teknoloġija tal-kisi tal-karbur tat-tantalu (CVD), laħqet il-livell avvanzat internazzjonali.

 

Bil-miġja ta 'wejfers tal-karbur tas-silikon (SiC) ta' 8 pulzieri, ir-rekwiżiti għal diversi proċessi ta 'semikondutturi saru dejjem aktar stretti, speċjalment għal proċessi ta' epitassi fejn it-temperaturi jistgħu jaqbżu l-2000 grad Celsius.Materjali tas-susċetturi tradizzjonali, bħall-grafita miksija bil-karbur tas-silikon, għandhom it-tendenza li jissublimaw f'dawn it-temperaturi għoljin, u jfixklu l-proċess tal-epitassija.Madankollu, CVD tantalum carbide (TaC) jindirizza b'mod effettiv din il-kwistjoni, jiflaħ temperaturi sa 2300 grad Celsius u joffri ħajja ta 'servizz itwal.Ikkuntattja Semicera's Tantalum Carbide TaC CVD Kisi Custom Partsbiex tesplora aktar dwar is-soluzzjonijiet avvanzati tagħna.

Wara snin ta 'żvilupp, Semicera rebaħ it-teknoloġija ta'CVD TaCbl-isforzi konġunti tad-dipartiment tal-R&D.Id-difetti huma faċli li jseħħu fil-proċess tat-tkabbir tal-wejfers tas-SiC, iżda wara l-użuTaC, id-differenza hija sinifikanti.Hawn taħt hemm paragun ta 'wejfers bi u mingħajr TaC, kif ukoll partijiet ta' Simicera għal tkabbir ta 'kristall wieħed.

微信图片_20240227150045

bi u mingħajr TaC

微信图片_20240227150053

Wara li tuża TaC (lemin)

Barra minn hekk, Semicera'sProdotti miksija bit-TaCjuru ħajja ta 'servizz itwal u reżistenza akbar għat-temperatura għolja meta mqabbla ma'Kisi SiC.Kejl tal-laboratorju wrew li tagħnaKisi tat-TaCjista 'jwettaq b'mod konsistenti f'temperaturi sa 2300 grad Celsius għal perjodi estiżi.Hawn taħt hawn xi eżempji tal-kampjuni tagħna:

 
0(1)
Post tax-xogħol tas-Semicera
Post tax-xogħol tas-semicera 2
Magna tat-tagħmir
Semicera Ware House
Ipproċessar CNN, tindif kimiku, kisi CVD
Is-servizz tagħna

  • Preċedenti:
  • Li jmiss: